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微電鑄工藝理論：

1.基于電沉積理論,分析了微細電鑄過程中金屬離子的運動情況,明確了電流密度和電鑄速度以及電流效率之間的定量關系,給出了電鑄速度和電流效率的概念和計算方法;
2.根據微電鑄工藝實施的需要,自行研制了一套微電鑄實驗系統,制定了微細電鑄工藝優化的實驗方案;采用直流電鑄和脈沖電鑄兩種方式,結合其電鑄速度、電流效率以及鑄層表面形貌,得到了較優化的電流參數;
3.對SU-8光刻膠厚膜光刻工藝展開了探索研究,分別進行了單層膠和雙層膠光刻實驗,針對具體的實驗環境對其工藝參數進行了調整和優化,制作了幾種典型的微結構光刻膠模型,并利用其作為電鑄母型,微電鑄成型了其模具型腔;
4.利用AZ光刻膠熱熔法制作了微透鏡膠模陣列,利用優化后的微電鑄工藝參數電鑄成型了微透鏡陣列模具。 通過本研究的工作,進一步明確了影響微電鑄工藝的主要因素。隨著整個微電鑄工藝的實施,加深了對微電鑄工藝過程的認識,為后續的進一步工藝優化提供了實驗依據。

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