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電鑄模具難脫模的三原因

    a.噴銀法:系利用硝酸銀和強還原劑的反應結果，而使硝酸銀中的銀離子還原成銀原子，當光阻片已經敏化處理后，則銀原子會附著在光阻片上，而形成導電層，其優點在於處理迅速及操作方便、可做較大面積的光阻全 像片、價格便宜等等，但其膜層的厚度及均勻度、附著力大小等等不易控制，因此須有熟練的技巧和特殊的配方，才會有優良導電膜層。

    b.化學沉積鎳:此方法可經由良好的控制而得到不錯的導電層，一般它須要在高溫浴之下進行反應，一但光阻片的處理不當，很容易在其過程之中，將使其光阻剝離或形成裂縫，且其將來的化學藥劑的廢棄處理亦是一大問題。

    C.真空蒸鍍法:真空蒸鍍可說是最好的附著導電層處理方式，但是由於真空蒸鍍機的設備問題、操作技術及真空度要求等原因，使一般人較少使用。由於其鍍層的厚度及均勻度、附著力等等有最佳的品質控制，其厚度可控制在數百A之間，不會影響將來電鑄后的品質，甚至可得最佳的品質效果，且其蒸鍍耗材的消耗量也相當的小。

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